Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 検査時間を１／２に短縮〜検査時間を１／２に短縮 マスク欠陥検査装置「ＮＰＩ−５０００（仮称）」
日経マイクロデバイス 第254号 2006.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第254号（2006.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全571字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （293kb） |
| 雑誌掲載位置 | 157ページ目 |
検査時間を１／２に短縮できるマスク欠陥検査装置（図１）。ロジックＬＳＩの４５ｎｍ世代に対応できる。一般にマスク検査では，マスクに光を透過させる検査と，光を反射させる検査を別々に実施する必要がある。今回は二つの検査を同時に実施することによって，マスク１枚当たりの検査時間を従来の３〜４時間から２時間に短縮した。そのために，１本のレーザー光を二つに分岐させて透過検査と反射検査を同時に実施する光学系を新…
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