Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜ＮＡ１．３クラスの競争に突入する液浸 ニコン，ＡＳＭＬが新製品を相次ぎ投入
日経マイクロデバイス 第254号 2006.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第254号（2006.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2323字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （258kb） |
| 雑誌掲載位置 | 95〜96ページ目 |
開口数（ＮＡ）１．３クラスの液浸ＡｒＦ露光装置の開発競争が激しさを増している（図１）。この７月にニコンがＮＡ１．３０の露光装置「ＮＳＲ−Ｓ６１０Ｃ」を発表すると，その６日後にオランダＡＳＭＬ Ｈｏｌｄｉｎｇ ＮＶがＮＡ１．３５の「ＸＴ：１９００ｉ」を「ＳＥＭＩＣＯＮ Ｗｅｓｔ ２００６」の会場で発表した。ＡＳＭＬが出した１．３５というＮＡ値は，純水を使った液浸露光では事実上の最大値と一般には考え…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「2ページ（全2323字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｉｎｓｉｄｅ ＥＤＡ〜民生用ＳｏＣ向け超並列プロセサ・コア メモリーに演算器を埋め込み，小型化図る
Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜ＮＡＮＤ型の４ビット／セル技術 誤り訂正の高速化でＭ−Ｓｙｓｔｅｍｓが実現
Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜好況に沸くＬＳＩ装置業界に死角 技術と人材の枯渇が深刻化
Ｒｅｐｏｒｔ［ＦＰＤ］〜ＦＰＤテレビ急成長に沸く中国家電ショー 画像処理回路やＬＥＤバックライト品も
つわものＳｏＣ列伝 ９〜富士通，民生用セルベースＬＳＩで サーバー向けチップ・セットを開発
