Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜富士通，ナノ粒子触媒使った　カーボン・ナノチューブ配線形成技術を開発
日経マイクロデバイス　第253号　2006.7.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第253号（2006.7.1）
ページ数	1ページ　（全544字）
形式	PDFファイル形式　（271kb）
雑誌掲載位置	95ページ目

　富士通と富士通研究所は共同で，ナノサイズの金属微粒子（ナノ粒子）を触媒に使い，多層カーボン・ナノチューブ配線を形成する技術を開発した。ナノ粒子触媒を使うことで，ＬＳＩの層間配線（ビア配線）におけるカーボン・ナノチューブの密度制御が容易になり，これまでにない高密度化を達成したという。３２ｎｍノード以降のＬＳＩ多層配線の低抵抗化に貢献できるとする。開発した技術の特徴は，大きく二つある。第１は，ナノ粒…