Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜着々と進むＥＵＶ露光技術開発 アルファ装置による解像結果が登場
日経マイクロデバイス 第250号 2006.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第250号（2006.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2949字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （145kb） |
| 雑誌掲載位置 | 78〜79ページ目 |
ＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）露光技術の開発が実用化に向けて大きく前進し始めた。オランダＡＳＭ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ社（ＡＳＭＬ）のプロセス開発向けＥＵＶ露光装置「Ａｌｐｈａ Ｄｅｍｏ Ｔｏｏｌ」による最初の解像結果が，予想よりも良好だったためである（図１）。Ａｌｐｈａ Ｄｅｍｏ Ｔｏｏｌは，量産プロセスで使うフルフィールドの露光が可能であるため，ＥＵＶ露光技術の実用性を判断…
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