Ｉｎｔｅｒｖｉｅｗ　インタビュー〜マスク技術はＤＦＭの要，設計と製造を仲介
日経マイクロデバイス　第249号　2006.3.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第249号（2006.3.1）
ページ数	2ページ　（全2716字）
形式	PDFファイル形式　（243kb）
雑誌掲載位置	144〜145ページ目

ＬＳＩの微細化が進んだことで，設計と製造を連携させるＤＦＭ（ｄｅｓｉｇｎ　ｆｏｒ　ｍａｎｕｆａｃｔｕｒａｂｉｌｉｔｙ）が歩留まり向上に欠かせなくなってきた。こうした流れの中で，設計と製造の中間に位置するマスク・メーカーの役割が注目されている。米Ｉｎｔｅｌ　Ｃｏｒｐ．と３２ｎｍノード（ｈｐ４５）向けマスクを共同開発するなど，先端技術でリードする大日本印刷の責任者に聞いた。大日本印刷　電子デバイス事業…