Ｔｅｃｈ−Ｏｎ！Ｒａｎｋｉｎｇ［ＬＳＩ］〜「２００５　ＩＥＤＭ」開幕前日の会場　「日本人の参加者が例年より少ない」
日経マイクロデバイス　第247号　2006.1.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第247号（2006.1.1）
ページ数	1ページ　（全373字）
形式	PDFファイル形式　（250kb）
雑誌掲載位置	105ページ目

　米国ワシントンＤ．Ｃ．で開催した半導体製造技術関連で最大の国際学会である「２００５　ＩＥＥＥ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｄｅｖｉｃｅｓ　Ｍｅｅｔｉｎｇ（２００５　ＩＥＤＭ）」の開催前日となる１２月４日には，チュートリアル形式の「ショート・コース」が２セッション開催された。さらに，本論文の披露の場となる「テクニカル・セッション」の受付が行われた関係で，会場には多くの技術者が参加…