Ｉｎｓｉｄｅ ＬＳＩ〜６５ｎｍの量産化で先行する米ＴＩ ３２ｎｍへのプロセス・シナリオ示す
日経マイクロデバイス 第243号 2005.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第243号（2005.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 6ページ （全7239字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （363kb） |
| 雑誌掲載位置 | 53〜58ページ目 |
トリッキーなことをせずに王道をいく−−。米Ｔｅｘａｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．（ＴＩ）のプロセス戦略に対して，このような印象を抱く技術者は多い。派手さはないものの，着実に成果を出していくところに同社のプロセス技術の強みがある。実際，６５ｎｍノード（ｈｐ９０）の携帯電話機向けベースバンドＬＳＩの量産は，世界的に早い。そのＴＩが３２ｎｍノード（ｈｐ４５）へのプロセス・シナリオを描く。個々の技術…
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