Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜光学式の明視野欠陥検査で　ＥＢに匹敵する検出感度を実現
日経マイクロデバイス　第241号　2005.7.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第241号（2005.7.1）
ページ数	2ページ　（全2547字）
形式	PDFファイル形式　（192kb）
雑誌掲載位置	116〜117ページ目

　光学式でありながら，検出可能な欠陥の最小寸法が３０ｎｍと小さい明視野の欠陥検査技術が登場した（図１）。明視野の検査技術で検出できる欠陥の最小寸法は現在のところ７０〜８０ｎｍが一般的であり，３０ｎｍの欠陥は高感度の電子ビーム（ＥＢ）方式でようやく検出できるレベルと考えられていた注１）。今回の技術は光学式の検査装置が持っている高いスループットを維持しているので，量産ラインの全数検査向けに使える。米Ａ…