Ｒｅｐｏｒｔ［ＬＳＩ］〜露光パターンの２次元形状を高速検査　数カ月かかる処理を１日に短縮
日経マイクロデバイス　第240号　2005.6.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第240号（2005.6.1）
ページ数	4ページ　（全3953字）
形式	PDFファイル形式　（225kb）
雑誌掲載位置	80〜83ページ目

　ウエーハ上に焼き付けた露光パターンの２次元形状を，広範囲にわたって高速に検査できる技術を開発した（図１）。露光装置の１ショット分に対応する２５ｍｍ×３３ｍｍの領域を検査する場合，従来の技術では数カ月かかるところを，約１日で完了できる。しかも，解像度に優れるＳＥＭ（ｓｃａｎｎｉｎｇ　ｅｌｅｃｔｒｏｎ　ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ）方式を使っているので，検出できる欠陥の最小寸法は５〜１０ｎｍと小さく，６５ｎ…