Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ 位置バラつきを１／２に削減〜位置バラつきを１／２に削減
日経マイクロデバイス 第236号 2005.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第236号（2005.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全587字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （136kb） |
| 雑誌掲載位置 | 114ページ目 |
マスク上に描画するパターンの位置バラつきを１／２に削減したＴＦＴ液晶向けレーザー・マスク描画装置（図６）。一般に，マスク描画装置ではマスク基板裏面の凹凸や，マスクとステージの間に挟まった異物の影響によって，マスク描画面に凹凸が生じてしまう。この凹凸がマスク・パターンの位置バラつきにつながる。そこで今回は，マスク基板の凹凸を計測し，それに応じてパターン形状を補正する機能を導入した。これによって，位…
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