Ｉｎｓｉｄｅ Ｍｅｍｏｒｙ〜高騰するプロセス開発コストを 新しいモデル探索手法で削減
日経マイクロデバイス 第228号 2004.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第228号（2004.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 8ページ （全10971字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （230kb） |
| 雑誌掲載位置 | 51〜58ページ目 |
村川 正宏，樋口 哲也産業技術総合研究所 次世代半導体研究センター半導体ＭＩＲＡＩプロジェクト 回路システム技術グループ和田 哲典，小田 嘉則，馬場 俊祐，遠藤 伸裕半導体先端テクノロジーズ三浦 道子，芝原 健太郎広島大学西 謙二近畿大学工業高等専門学校伊藤 桂一進化システム総合研究所高騰するデバイス・プロセス開発のコストを劇的に削減できる可能性が出てきた。デバイス・プロセス・シミュレーションに使…
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