Report[Logic]〜世界最小セルのメモリー技術 13.9GHz動作のPLLに注目
日経マイクロデバイス 第226号 2004.4.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第226号(2004.4.1) |
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ページ数 | 1ページ (全1650字) |
形式 | PDFファイル形式 (62kb) |
雑誌掲載位置 | 105ページ目 |
デバイス技術は「45nm(hp65)プロセスと高集積メモリー」,回路技術は「90nm(hp130)LSIと高速インタフェース」。これらが,6月15〜19日に米国ハワイで開かれるLSI技術の国際会議「2004 Symposia on VLSI Technology and Circuits」を読み解くキーワードになる。DRAMセルで0.036μm2を達成 デバイスの45nmプロセス技術に関しては,…
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