ＷＥＢ Ａｃｃｅｓｓ Ｒａｎｋｉｎｇ［Ｌｏｇｉｃ］〜ソニーと東芝 ４５ｎｍのシステムＬＳＩ向け プロセス技術を共同開発
日経マイクロデバイス 第226号 2004.4.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第226号（2004.4.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全330字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （141kb） |
| 雑誌掲載位置 | 94ページ目 |
ソニーと東芝は，４５ｎｍ（ｈｐ６５）のシステムＬＳＩ向けプロセス技術を共同開発することで合意したと発表した。両社合わせて約２００億円の開発費を投入する。横浜市にある東芝のアドバンストマイクロエレクトロニクスセンターおよび東芝大分工場にピーク時で約１５０人の技術者を集結させ，２００５年末までに開発を完了させる。両社は，２００１年から６５ｎｍ（ｈｐ９０）のシステムＬＳＩ向けプロセス技術の共同開発を進…
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