Ｅｍｅｒｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ〜専門家をうならせた ＥＢ露光マスク
日経マイクロデバイス 第219号 2003.9.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第219号（2003.9.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全885字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （61kb） |
| 雑誌掲載位置 | 3ページ目 |
下の写真，７０ｎｍノードのＤＲＡＭ向けのマスクとレジスト・パターンが，露光の専門家をうならせている（図１）。韓国Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．が開発中のパターンである。実はこのマスク，光露光向けではない。実現技術の候補として，同社が設計データを提供し，ＨＯＹＡが作成した「ＬＥＥＰＬ」向けマスクである。ＬＥＥＰＬは，等倍のマスクを使う電子ビーム（ＥＢ）を使った次世代露光…
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