Ｒａｎｋｉｎｇ［Ｌｏｇｉｃ］〜米Ｉｎｔｅｌが Ｆ２露光をスキップ
日経マイクロデバイス 第217号 2003.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第217号（2003.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全303字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （62kb） |
| 雑誌掲載位置 | 129ページ目 |
米Ｉｎｔｅｌ Ｃｏｒｐ．がＦ２エキシマ・レーザー露光技術をスキップする方針を発表した。４５ｎｍまではＡｒＦエキシマ・レーザー露光を使い，３２ｎｍからはＦ２露光を経由せずにＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａ ｖｉｏｌｅｔ）露光へ直接移行する。Ｉｎｔｅｌはこれまで，２００５年に量産を開始する６５ｎｍまではＡｒＦ露光を使い，２００７年に量産開始予定の４５ｎｍ向けにＡｒＦ露光とＦ２露光，２００９年に量産…
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