インタビュー 囲み〜ＣＡＤ関連技術とコストを含めた 露光コストの抑制に注力
日経マイクロデバイス 第215号 2003.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第215号（2003.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全767字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （126kb） |
| 雑誌掲載位置 | 16ページ目 |
単にロードマップに沿うだけではなく，顧客の本当の要求に合わせた開発が重要になってきた。この意味で，ＣＡＤ関連技術とマスクを含めた露光コスト上昇の抑制技術に注力している。 ＣＡＤ関連技術は，ＬＳＩメーカーによる光近接効果補正（ＯＰＣ）や位相シフト技術の採用が増えたことで必要性が高まっている。ところが，現状のマスクＣＡＤの完成度は低い。この原因の一つに，マスクＣＡＤメーカーとマスク・メーカーの連携不…
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