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μレポート[LSI製造]〜ベールを脱いだキヤノンの マスクレスEB露光技術
日経マイクロデバイス 第213号 2003.3.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第213号(2003.3.1) |
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ページ数 | 2ページ (全1966字) |
形式 | PDFファイル形式 (140kb) |
雑誌掲載位置 | 36〜37ページ目 |
露光EBマスクレスマスクレス電子ビーム(EB)露光技術の詳細と開発の進ちょく状況をキヤノンが明らかにした。技術の詳細は,同社がMEMS(micro electro−mechanical systems)関係と真空関係の学会で発表したために,競合他社のEB露光技術者が「開発していることしか知らない」という状況だった。進ちょく状況は,「2005年に試作・量産対応版を出荷する」(同社広報部)ことしか公表…
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