技術レター［ＦＰＤ＆パッケージ］〜マイクロプロセサ「Ｚ８０」を　液晶用ガラス基板上に形成　「ＣＧ　Ｓｉｌｉｃｏｎ」技術で実現
日経マイクロデバイス　第210号　2002.12.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第210号（2002.12.1）
ページ数	1ページ　（全525字）
形式	PDFファイル形式　（63kb）
雑誌掲載位置	42ページ目

マイクロ　プロセサ低温多結晶ＳｉＴＦＴ　液晶パネル用のガラス基板上に８ビット・マイクロプロセサ「Ｚ８０」を形成することに，シャープと半導体エネルギー研究所のグループが成功した。両社が共同開発した「ＣＧ　Ｓｉｌｉｃｏｎ」技術によって実現している。ガラス上にマイクロプロセサを形成するために，プロセス温度は５５０℃を超えないようにした。基板には，歪点が６４０℃である米Ｃｏｒｎｉｎｇ社製の「１７３７」ガラ…