連載［マニュファクチャリング］〜マスク・コストの高騰が　半導体の技術・経営を変える
日経マイクロデバイス　第209号　2002.11.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第209号（2002.11.1）
ページ数	3ページ　（全5108字）
形式	PDFファイル形式　（98kb）
雑誌掲載位置	126〜128ページ目

マスク露光装置低コスト化位相シフトにＯＰＣ（光近接効果補正）。微細化に伴ってマスクには新技術が必要になりそれとともにマスク・コストが高騰している。０．１μｍルールで２５枚のマスクが必要なＬＳＩの場合，全マスク・セット価格は３億円（２５０万米ドル）に達すると見込まれる。マスク・メーカー，Ｓｉファウンドリ，ＩＤＭ（ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ　ｄｅｖｉｃｅ　ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅｒ），検査装置メーカー，および…