技術レター［ＬＳＩ設計＆ＬＳＩ製造］〜「２００２　ＶＬＳＩ　Ｓｙｍｐｏｓｉａ」　複数の技術を組み合わせ　微細化の限界に挑戦
日経マイクロデバイス　第205号　2002.7.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第205号（2002.7.1）
ページ数	1ページ　（全1973字）
形式	PDFファイル形式　（64kb）
雑誌掲載位置	37ページ目

微細化ＦＥＴ学会　「微細化の限界を突破する上で唯一の解は存在せず，複数の技術をいかに組み合わせるかが勝負になる」。こうした技術開発の方向性が，２００２年６月に米国で開かれたデバイス・回路技術の国際会議「２００２　ＶＬＳＩ　Ｓｙｍｐｏｓｉａ」で見えた。会議は「Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」と「Ｃｉｒｃｕｉｔｓ」の二つがある。Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙでは歪みＳｉなど新構造のトランジスタ技術や，リークを抑制する高誘…