産業ウオッチャ〜日本版ＥＵＶ開発機構を　国内ＬＳＩ・装置１０社が組織　２００５年までに試作機を完成
日経マイクロデバイス　第205号　2002.7.1

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掲載誌	日経マイクロデバイス　第205号（2002.7.1）
ページ数	1ページ　（全275字）
形式	PDFファイル形式　（64kb）
雑誌掲載位置	31ページ目

日本露光国家プロジェクト　次世代のＥＵＶ露光技術を開発する新組織「極端紫外線露光システム技術開発機構（ＥＵＶＡ）」を，国内ＬＳＩ・装置１０社が設立した。経済産業省のプロジェクトに参加し，ＥＵＶ露光に使う光源や装置を開発するほか，総合的な調査・研究を行う。プロジェクトは２００６年末に終了するが，２００５年末までに試作版の露光装置を完成させる。東京大学教授の堀池靖浩氏が研究・開発の指揮を取る。２００２…