μレポート［ＬＳＩ製造］〜３００ｍｍ量産ラインの 擬似環境を実現できる テクノロジ・センター
日経マイクロデバイス 第203号 2002.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第203号（2002.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2883字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （127kb） |
| 雑誌掲載位置 | 127〜128ページ目 |
ＬＳＩプロセス研究開発製造装置米Ａｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ， Ｉｎｃ．（ＡＭＡＴ）が新しいテクノロジ・センターを米国カリフォルニアに開設した。特に３００ｍｍウエーハを意識した擬似工場環境を実現でき，３００ｍｍ試作ラインを持たないＬＳＩメーカーでも短期間に量産工場を建設できるように支援する。同社は，１９９８年に競合他社に先駆けて最初のテクノロジ・センター「Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ ａｎｄ Ｐｒｏｃ…
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