産業ウオッチャ〜米Ｉｎｔｅｌが０．１３μｍの　新工場「Ｆａｂ２２」の　稼働を開始
日経マイクロデバイス　第197号　2001.11.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第197号（2001.11.1）
ページ数	1ページ　（全511字）
形式	PDFファイル形式　（25kb）
雑誌掲載位置	33ページ目

米国工場ＬＳＩ製造　米Ｉｎｔｅｌ　Ｃｏｒｐ．は１０月１７日，最新工場「Ｆａｂ２２」を開設したことを，米国サンタクララで開かれた記者発表で明らかにした。Ｆａｂ２２は，０．１３μｍのＣｕ配線，２００ｍｍウエーハを使ってマイクロプロセサを製造する。２００１年９月には試験稼働を始めており，２００１年中に量産を開始する予定である。米アリゾナ州チャンドラの同社敷地内に総額２０億米ドル，１８カ月を費やして建設し…