技術レター［ＬＣＤ（ディスプレイ）］ 寄稿〜世界初の「Ｃａｔ−ＣＶＤ」 関連の国際会議を開催 日米欧の状況が明らかに
日経マイクロデバイス 第186号 2000.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第186号（2000.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全396字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （25kb） |
| 雑誌掲載位置 | 140ページ目 |
製造技術ＣＶＤ学会 「Ｃａｔ−ＣＶＤ」の国際会議「１ｓｔ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ ｏｎ Ｃａｔ−ＣＶＤ（Ｈｏｔ−Ｗｉｒｅ ＣＶＤ）Ｐｒｏｃｅｓｓ」が開かれ，基調講演で日米欧の研究開発の現状が明らかになった。日本については，移動度１ｃｍ２／Ｖ・ｓを超えるアモーファスＳｉ−ＴＦＴやＣａｔ−ＣＶＤ装置を使ったチャンバ・クリーニングの新手法を，北陸先端科学技術大学院大学教授の松村…
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