産業ウオッチャ〜台湾ＴＳＭＣ，３００ｍｍ ライン建設の 進ちょくを明らかに
日経マイクロデバイス 第186号 2000.12.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第186号（2000.12.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全269字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （56kb） |
| 雑誌掲載位置 | 134ページ目 |
台湾工場大口径化 台湾Ｔａｉｗａｎ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．（ＴＳＭＣ）が３００ｍｍライン建設の状況を明らかにした。同社の３００ｍｍラインは三つある。試作ライン「Ｆａｂ−６Ｂ」は１１月に試作を始める。量産ライン「Ｆａｂ−１２」は，現在は建屋を建設中である。２００１年１月にクリーン・ルームの内装を始め，６月に装置を搬入，２００２年初めに量産を始める。…
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