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日経マイクロデバイス 第182号 2000.8.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第182号（2000.8.1） |
|---|---|
| ページ数 | 6ページ （全6816字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （110kb） |
| 雑誌掲載位置 | 61〜66ページ目 |
ＬＳＩ製造３００ｍｍ対応のＫｒＦ露光装置出そろう■ＫｒＦエキシマ・レーザー・スキャン露光装置 ニコン，キヤノン，オランダＡＳＭ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（ＡＳＭＬ）社の露光装置大手３社から，３００ｍｍウエーハ対応のＫｒＦエキシマ・レーザー・スキャン露光装置が出そろった（図１）。７月に米国で開催された「ＳＥＭＩＣＯＮ Ｗｅｓｔ２０００」に初めて登場した。今回は解像度とスループットという２大要求への力点…
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