産業ウォッチャ〜ｐｐｂのアミン汚染対策が ０．１５μｍ以下では重要に ベルギーＩＭＥＣが発表
日経マイクロデバイス 第181号 2000.7.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第181号（2000.7.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全312字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （79kb） |
| 雑誌掲載位置 | 60ページ目 |
欧州露光レジスト ベルギーＩＭＥＣが，設計ルール０．１５μｍ以下ではｐｐｂレベルのアミン汚染への対策が重要になるとの研究成果を発表した。ＩＭＥＣによると，露光装置内に分子レベルで約１５ｐｐｂのアミン系の汚染が周期的に発生し，このような汚染が発生すると１分当たり６ｎｍの線幅変動が起こるとする。設計ルール０．１５μｍの線幅変動に対する許容値を１５ｎｍと考えた場合，この値は線幅変動に対する許容値の４０％…
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