ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（メモリー）〜ポストＡｒＦ露光技術に 焦点が集まる 「Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２０００」
日経マイクロデバイス 第177号 2000.3.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第177号（2000.3.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全262字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （37kb） |
| 雑誌掲載位置 | 149ページ目 |
露光技術微細化 ポストＡｒＦエキシマ・レーザー露光技術が，この２月２７日〜３月３日に米国サンタクララで開かれる「ＳＰＩＥ’ｓ ２５ｔｈ ａｎｎｕａｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ ｏｎ Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ（Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２０００）」の焦点になる。最有力候補に浮上したＦ２エキシマ・レーザー露光関連のセッションが四つに増え，縮小Ｘ線（ＥＵＶ）露光の反…
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