Ｄｅｔａｉｌｓ ＬＳＩ（ロジック）〜ＬＳＩ，ＬＣＤの４分野に向け 企業が実用化に取り組み 始めた「Ｃａｔ−ＣＶＤ」
日経マイクロデバイス 第176号 2000.2.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第176号（2000.2.1） |
|---|---|
| ページ数 | 4ページ （全3378字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （112kb） |
| 雑誌掲載位置 | 155〜158ページ目 |
ＣＶＤＬＳＩＴＦＴ絶縁膜やＳｉ膜を３００℃以下の低温で形成できる技術として提案されている「Ｃａｔ−ＣＶＤ」法が，実用化に向けて大きく進展した。Ｃａｔ−ＣＶＤ法は，北陸先端科学技術大学院大学教授の松村英樹氏が広島大学助教授だった１９８５年に発明し，その後基礎研究が続けられてきた。ここへ来てＬＳＩ，ＬＣＤの各社，製造装置メーカーが，実用化に取り組み始めた。低温成膜技術として採用を決定したところはまだな…
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