インタビュー〜米インテル社の露光技術戦略 短波長化で０．１μｍまで実現
日経マイクロデバイス 第168号 1999.6.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第168号（1999.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2917字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （68kb） |
| 雑誌掲載位置 | 22〜23ページ目 |
米Ｉｎｔｅｌ Ｃｏｒｐ．Ｆｅｌｌｏｗ， Ｄｉｒｅｃｔｏｒ ｏｆ Ａｄｖａｎｃｅｄ ＬｉｔｈｏｇｒａｐｈｙＹａｎ Ｂｏｒｏｄｏｖｓｋｙ 氏「２年ごとに微細化を推進」 問 ０．１８μｍ以降の量産スケジュールを教えてください。 答 ０．１８μｍのマイクロプロセサは１９９９年第２四半期から量産を始めます。０．１５μｍはわれわれのロードマップにありません。０．１３μｍは２００１年第２四半期から量産を始め，０…
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