ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜米ＩＢＭがシステムＬＳＩの 生産能力強化を図り 野洲工場へ設備投資
日経マイクロデバイス 第167号 1999.5.1
| 掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第167号（1999.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全268字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （46kb） |
| 雑誌掲載位置 | 170ページ目 |
米ＩＢＭ Ｃｏｒｐ．が，システムＬＳＩの生産能力を強化するために野洲工場へ設備投資する。まずは既存ラインの製造装置を一部入れ換え，微細な設計ルールに対応できるようにする。０．２５μｍに変更する投資をすでに決めた。現在は，０．１８μｍや０．１５μｍに変更する投資を「検討中」（日本アイ・ビー・エム）である。Ｃｕ配線やＳＯＩ（ｓｉｌｉｃｏｎ ｏｎ ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）を導入する方向。ＩＢＭはＮＥＣと並…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「1ページ（全268字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜新しいＬＳＩ設計環境で 設計期間の半減を 目指す富士通
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜ＶＣＸとＲＡＰＩＤが ＩＰの問題解決に 共同で着手
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜産学連携の第１回 「ＬＳＩ ＩＰデザイン・ アワード」が決定
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜低誘電率層間絶縁膜と Ｃｕ配線の組み合わせに 注目集まる「ＩＩＴＣ」
ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ ＬＳＩ（ロジック）〜０．１８μｍと０．１５μｍの ゲート長のロジックＬＳＩを ＮＥＣが２０００年１月に量産
