ＮｅｗｓＬｅｔｔｅｒ　ＬＳＩ（ロジック）〜プラズマ・ドーピング装置　開発加速が明らかになった　「３ｒｄ　ＰＤＵＧ　Ｍｅｅｔｉｎｇ」
日経マイクロデバイス　第163号　1999.1.1

この記事の情報
掲載誌	日経マイクロデバイス　第163号（1999.1.1）
ページ数	1ページ　（全366字）
形式	PDFファイル形式　（42kb）
雑誌掲載位置	161ページ目

　プラズマ・ドーピング装置の開発が加速している。「セミコン・ジャパン　９８」に合わせて１９９８年１２月３日に開かれた「３ｒｄ　Ｐｌａｓｍａ　Ｄｏｐｉｎｇ　Ｕｓｅｒ’ｓ　Ｇｒｏｕｐ（ＰＤＵＧ）Ｍｅｅｔｉｎｇ」では，米Ｖａｒｉａｎ　Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ，　Ｉｎｃ．と住友イートンノバが，それぞれプラズマ・ドーピング装置の開発状況を明らかにした。Ｖａｒｉａｎは，すでに基本的な装置技術の開発を完了しており，…