Ｅｍｅｒｇｉｎｇ Ｔｅｃｈ 解説 半導体製造〜キヤノンが半導体露光装置を再加速 ＡＩチップ実装独占しＡｒＦも諦めず
日経エレクトロニクス 第1264号 2024.6.1
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1264号（2024.6.1） |
|---|---|
| ページ数 | 3ページ （全3389字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （842kb） |
| 雑誌掲載位置 | 76〜78ページ目 |
キヤノンの半導体露光装置事業がかつての勢いを取り戻している。ＡｒＦ液浸露光装置やＥＵＶ（極端紫外線）露光装置を事業化できず、オランダＡＳＭＬやニコンとの開発競争に敗れた同社。ところがここにきて、生成ＡＩ（人工知能）を支える先端パッケージング向けの市場を総取りしている。ナノインプリントリソグラフィー装置を発売し、微細化の最先端にも返り咲く（図１）。フルラインナップで王者ＡＳＭＬに対抗しようと、かつて…
記事の購入（ダウンロード）
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 550円（税込）
他のIDで購入する
G-Search ミッケ！は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「3ページ（全3389字）」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
（注）特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。
Ｅｍｅｒｇｉｎｇ Ｔｅｃｈ 解説 半導体製造〜イジングマシンの使いどころ発見 マスクパターン最適化設計に効く
Ｅｍｅｒｇｉｎｇ Ｔｅｃｈ 解説 半導体設計〜サンケン電気が驚きの世界最先端マイコン ２２ｎｍ・ＲｅＲＡＭ内蔵・ＲＩＳＣ−Ｖ
Ｅｍｅｒｇｉｎｇ Ｔｅｃｈ 解説 半導体開発〜キオクシアが競争力向上目指し注力 ＤＲＡＭ並み速度の大容量不揮発メモリー
Ｐｒｏｄｕｃｔ′ｓ Ｔｒｅｎｄｓ〜ＡｒｍがエッジＡＩ向けに新ＮＰＵコア トランスフォーマー対応でスマホも狙う ほか
奥付〜読者から
