Ｈｏｔ Ｎｅｗｓ〜半導体向けナノインプリント、２０１９年にＮＡＮＤフラッシュ量産か
日経エレクトロニクス 第1179号 2017.5.1
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1179号（2017.5.1） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2471字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （588kb） |
| 雑誌掲載位置 | 24〜25ページ目 |
キヤノン、大日本印刷（ＤＮＰ）、東芝メモリ（旧東芝）および韓国ＳＫ Ｈｙｎｉｘ社の４社は、２０１７年２月末に開かれた半導体露光技術の国際会議「ＳＰＩＥ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ２０１７（ＳＰＩＥ）」にそれぞれ登壇し、ナノインプリントリソグラフィー（ＮＩＬ）技術がＮＡＮＤフラッシュメモリーの量産適用に大きく近づいた状況を発表した。４社はほぼ一体となってＮＩＬの開発に取り組んでいる…
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