ＮＥレポート〜“霧”で下地を傷めず高速成膜 太陽電池の変換効率１割アップ
日経エレクトロニクス 第1143号 2014.9.15
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1143号（2014.9.15） |
|---|---|
| ページ数 | 2ページ （全2159字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （521kb） |
| 雑誌掲載位置 | 23〜24ページ目 |
「太陽電池の変換効率が最大で１割ほど高まった」─。東芝三菱電機産業システムは、原料を霧状にして薄膜を形成するミストＣＶＤ（化学気相成長）装置「ＴＭｍｉｓｔ」を開発した。非真空プロセスであり、プラズマを用いないことから、装置の設置面積や初期投資額の低減、下地の膜の特性向上などが期待できるとする。東芝三菱電機産業システムは、太陽電池の透明導電膜の形成などに向けて、２０１４年度に約１０億円、２０１５年…
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