ＮＥレポート〜半導体製造で逆転狙うキヤノン　ナノインプリントを実用化へ
日経エレクトロニクス　第1131号　2014.3.31

この記事の情報
掲載誌	日経エレクトロニクス　第1131号（2014.3.31）
ページ数	2ページ　（全2404字）
形式	PDFファイル形式　（486kb）
雑誌掲載位置	10〜11ページ目

　キヤノンは２０１４年２月、ナノインプリントを基にした半導体製造技術（ＮＩＬ）†のベンチャー、米Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｉｍｐｒｉｎｔｓ社（ＭＩＩ）を買収し、１００％子会社にすると発表した。ＮＩＬは判型に微細な凹凸パターンを施し、ウエハーに圧着することでレジストを微細加工する技術。１０年ほど前から光リソグラフィに代わる技術として脚光を浴びたが、技術的な課題が多く、実用化が遅れていた。そうした中でキヤノ…