キーワード〜EUV
日経エレクトロニクス 第1103号 2013.3.4
掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1103号(2013.3.4) |
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ページ数 | 1ページ (全806字) |
形式 | PDFファイル形式 (202kb) |
雑誌掲載位置 | 114ページ目 |
EUVとは、波長13.5nmの極端紫外線(extreme ultraviolet)のこと。軟X線とも呼ばれる。この光を利用したEUV露光技術は、半導体のさらなる微細化を可能にする次世代露光技術として期待されている。 これまで半導体の露光技術は、使用する光の波長を短くすることで露光時の解像力を高め、微細化に対応してきた。ただし、ここ10年ほどは光の波長が193nmから変わっていない。波長を短くする…
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