![](/QNBP_NE/image/kiji/336/QNBP336356.jpg)
NEレポート〜酸化物半導体TFTの特許 JSTがSamsung社に実施権
日経エレクトロニクス 第1063号 2011.8.22
掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第1063号(2011.8.22) |
---|---|
ページ数 | 2ページ (全2517字) |
形式 | PDFファイル形式 (932kb) |
雑誌掲載位置 | 16〜17ページ目 |
科学技術振興機構(JST)は2011年7月、酸化物半導体を利用した「IGZO(In−Ga−Zn−O)TFT」技術の特許について、韓国Samsung Electronics社にライセンス供与する契約を締結した。この技術は、東京工業大学 応用セラミックス研究所 教授の細野秀雄氏の研究グループが1995年以降開発してきた「透明酸化物半導体(TAOS)」に基づく(図1)。 IGZO TFTは、超高精細、…
記事の購入(ダウンロード)
購入には会員登録が必要です 会員登録はこちら
価格 330円(税込)
他のIDで購入する
G-Search ミッケ!は雑誌を記事ごとに販売するサービスです。
この記事は「2ページ(全2517字)」です。ご購入の前に記事の内容と文字数をお確かめください。
(注)特集のトビラ、タイトルページなど、図案が中心のページもございます。