キーワード〜フォトマスク［ ｐｈｏｔｏｍａｓｋ ］
日経エレクトロニクス 第991号 2008.11.17
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第991号（2008.11.17） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1275字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （252kb） |
| 雑誌掲載位置 | 37ページ目 |
Ｓｉウエハー上にＬＳＩの回路配線を形成するための原版。フォトマスクの価格は，微細化の進展とともに高騰している。マスク一式の価格は６５ｎｍ世代で約１億円だが，４５ｎｍ世代では約２億円，３２ｎｍ世代では約４億円に跳ね上がる見通しだ。マイクロプロセサやメモリのような汎用ＬＳＩではあまり問題にならないが，ＡＳＩＣのように生産量の少ないＬＳＩではコストを大きく増やす要因になる。ＡＳＩＣから汎用ＬＳＩへの置…
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