特集1 激安DRAMを活かす〜微細化とセル・レイアウトで年率30%ずつコストダウン
日経エレクトロニクス 第964号 2007.11.5
掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第964号(2007.11.5) |
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ページ数 | 6ページ (全7055字) |
形式 | PDFファイル形式 (1393kb) |
雑誌掲載位置 | 59〜64ページ目 |
DRAMメーカーは2011年ごろまで年率30%減のペースで低コスト化を継続する構えだ。このために,従来の微細化に加えて,メモリ・セルのレイアウトを抜本的に変更する。現在のDRAM製品の主流は,面積が8F2(Fは最小加工寸法)のセルを使っている。2007〜2008年には面積が6F2のセルへの移行が本格化する。2011年には4F2のセルに移る。製造技術の微細化では,今後も年率7〜13%ずつ,寸法を小刻…
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