特集２〜大容量化に陰りなし，ＥＵＶ露光が実用へ
日経エレクトロニクス 第957号 2007.7.30
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第957号（2007.7.30） |
|---|---|
| ページ数 | 10ページ （全13104字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （4299kb） |
| 雑誌掲載位置 | 85〜94ページ目 |
これまで遠い将来の技術と思われていたＥＵＶ露光技術がついに実用化に向けて動き出した。６４Ｇ〜２５６ＧビットのＮＡＮＤフラッシュ・メモリや１６億〜６４億トランジスタのマイクロプロセサの実現に道を開く。早ければ２０１０年にも部分的に利用され始め，２０１１年には量産への適用が始まる見通しである。ニコンのＥＵＶ露光装置「ＥＵＶ１」に搭載する投影光学系ニコンのＥＵＶ１に使う真空チャンバＥＵＶ１に搭載するＸｔ…
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