Selected Shorts〜TI社が65nm世代で製造するケータイ用LSIを出荷
日経エレクトロニクス 第896号 2005.3.28
掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第896号(2005.3.28) |
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ページ数 | 1ページ (全264字) |
形式 | PDFファイル形式 (306kb) |
雑誌掲載位置 | 52ページ目 |
米Texas Instruments(TI)社は,65nm世代のCMOS技術で製造する,携帯電話機向けベースバンドLSIの出荷を始める。65nm世代で製造するLSIの出荷は業界で初めて。90nm世代に比べてチップ面積を半減した。歪みSi技術を使うことでトランジスタ性能を40%向上できた。11層のCu配線で,k=2.8〜2.9程度の低誘電率(low−k)材料を採用する。低消費電力化のために,演算処…
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