Ｓｅｌｅｃｔｅｄ Ｓｈｏｒｔｓ〜ＮＥＣ，「Ｓｉナノフォトニクス」を目指す要素技術を続々開発
日経エレクトロニクス 第895号 2005.3.14
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第895号（2005.3.14） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全429字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （280kb） |
| 雑誌掲載位置 | 47ページ目 |
ＮＥＣは，表面プラズモン共鳴を使った小型のフォトダイオード，曲率半径数μｍで曲がる光導波路，従来の大きさの１／１００以下となる光合分波素子（ＡＷＧ：ａｒｒａｙｅｄ ｗａｖｅｇｕｉｄｅ ｇｒａｔｉｎｇ）などを開発中であることを明らかにした。これらは「Ｓｉナノフォトニクス」という技術分野を確立するための要素技術。光配線を使ったＬＳＩの高性能化や，通信機器に使う本格的な光集積回路を実現するのが目的であ…
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