Selected Shorts〜SiからSiCに 三菱がパワーMOSFETを開発
日経エレクトロニクス 第890号 2005.1.3
掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第890号(2005.1.3) |
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ページ数 | 1ページ (全406字) |
形式 | PDFファイル形式 (272kb) |
雑誌掲載位置 | 34ページ目 |
三菱電機は,次世代のパワー半導体向け材料であるSiCを使ったMOSFETを開発した。ゲート電圧が+12V,ドレイン電流が50A/cm2のときのオン抵抗は12.9mΩcm2で,現状のSiを用いたIGBTに比べてインバータの電力損失を50%以上削減できるという。「あと数年くらいで何とか実用化したい」(同社)とした。同社は今回,MOSチャネル層の膜質を改良するなどしてオン抵抗を低減した。耐圧は1.2k…
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