Ｎｅｗ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ〜ＭＥＭＳ用製造装置 幅が２００μｍと太い流路の形成が容易
日経エレクトロニクス 第888号 2004.12.6
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第888号（2004.12.6） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全252字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （233kb） |
| 雑誌掲載位置 | 63ページ目 |
日立笠戸エンジニアリングは，幅が５μｍ〜２００μｍの流路を形成できる直描露光装置「ＫＤＷ−１００」を発売する。ＭＥＭＳ技術でＤＮＡチップなどを開発する研究開発部門に向ける。波長が３６５ｎｍの紫外光でレジストに配線を直接描画するため，マスクを作成するよりも短時間で試作できる。また電子ビームやレーザに比べて太い流路の形成が容易という。描画速度は１μｍ／ｓ〜１０００μｍ／ｓ。チ（０８３３）４１−８７５４…
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