What’s New〜激化する次世代メモリ開発 セルの3次元化が焦点
日経エレクトロニクス 第877号 2004.7.5
掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第877号(2004.7.5) |
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ページ数 | 2ページ (全3510字) |
形式 | PDFファイル形式 (88kb) |
雑誌掲載位置 | 26〜27ページ目 |
対症療法から根治療法へ−−。2004年6月に米国で開催された国際会議「2004 Symposia on VLSI Technology and Circuits」では,半導体メーカーがDRAM,フラッシュEEPROM,SRAMの抜本的な構造変更に挑む姿勢が鮮明になった。共通するキーワードはセル・トランジスタの3次元化だ(図1)。 これまでセル・トランジスタはSi基板の面内方向に電極やチャネルを…
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