新製品ニュース〜 ０．１３ｎｍＣＭＯＳプロセスで 製造するセルベースＬＳＩ
日経エレクトロニクス 第765号 2000.3.13
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第765号（2000.3.13） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全405字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （179kb） |
| 雑誌掲載位置 | 66ページ目 |
ＮＥＣは，０．１３ｎｍルールの（実効ゲート長は０．１０ｎｍ）ＣＭＯＳプロセス「ＵＸ４」で製造するセルベースＬＳＩ「ＣＢ−１２」の受注を，２０００年４月から始める。 幅広い応用分野へ展開するため，４種類の回路ライブラリを用意した（表）。ＩＰコアと呼ばれる大規模なマクロブロックとしては，同社のＣＰＵコア（Ｖ８５０ＥやＶＲ）やＰＣＩバス・コントローラ，ＵＳＢ回路，ＩＥＥＥ１３９４回路，Ａ−Ｄ変換器，Ｄ…
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