技術速報〜米Ｃａｄｅｎｃｅ社，ＬＳＩ回路ライブラリの物理フォーマット「ＬＥＦ」を 第三者機関の米Ｓｉ２社に提供
日経エレクトロニクス 第759号 1999.12.13
| 掲載誌 | 日経エレクトロニクス 第759号（1999.12.13） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全629字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （70kb） |
| 雑誌掲載位置 | 22ページ目 |
米Ｃａｄｅｎｃｅ Ｄｅｓｉｇｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．は，同社のＬＳＩ回路ライブラリの物理（マスク・レイアウト）形式「ＬＥＦ（Ｌｉｂｒａｒｙ Ｅｘｃｈａｎｇｅ Ｆｏｒｍａｔ）」を，米Ｓｉ２社（Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ Ｉｎｉｔｉａｔｉｖｅ，Ｉｎｃ．：設計環境の整備促進を支援する米国の非営利法人）に提供した。この結果，ＬＥＦは，Ｓｉ２社が進める回路ライブラリの標準化プロジェクト「Ｏ…
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