【第１特集 半導体の覇者】−−Ｐａｒｔ２．日本企業 敗北の本質−−次世代露光装置で完敗 崖っ縁のニコン、キヤノン
週刊東洋経済 第6728号 2017.5.27
| 掲載誌 | 週刊東洋経済 第6728号（2017.5.27） |
|---|---|
| ページ数 | 1ページ （全1672字） |
| 形式 | PDFファイル形式 （259kb） |
| 雑誌掲載位置 | 65頁目 |
【第１特集 半導体の覇者】Ｐａｒｔ２．日本企業 敗北の本質次世代露光装置で完敗 崖っ縁のニコン、キヤノン 一度は絶望視された次世代技術が、実用化へ向けて動きだした。 蘭ＡＳＭＬは、２０１８年に約２０台のＥＵＶ（極端紫外線）露光装置を出荷する見通しだ。製造装置の中でも半導体ウエハに回路を描く露光装置は、微細化技術の要。ＡＳＭＬは１９９０年代からＥＵＶの技術開発に着手、光の波長をより短くすることで実現…
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