Tutorial〜2020年のデバイス実装に向けた,配線/接合の基盤技術を開発
日経マイクロデバイス 第295号 2010.1.1
掲載誌 | 日経マイクロデバイス 第295号(2010.1.1) |
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ページ数 | 5ページ (全4317字) |
形式 | PDFファイル形式 (703kb) |
雑誌掲載位置 | 85〜89ページ目 |
次の10年間を見据えたデバイス実装の基盤技術を紹介する。解説するのは,常温接合技術の研究をリードしている東京大学 教授の須賀唯知氏と,新手法による高速伝送技術を開発している明星大学 名誉教授の大塚寛治氏である。両氏は,物理法則を踏まえた低エネルギーでの実装手法を提案している。そして,この手法を用いて,2020年に求められる高速かつ高密度の基盤技術を確立した。(三宅 常之=本誌)須賀唯知東京大学 教…
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